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美光芯片HBM3E封装12tbs带宽与铜硅混合键合工艺
时间:2025-10-21 13:52:49 编辑:翡翠原石网 访问:643
美光芯片HBM3E封装:1.2tbs带宽与铜硅混合键合工艺,封装技术方面也取得了重大突破,台湾工厂量产的HBM3E高带宽内存采用12层硅通...这一高性能源于两项核心技术:铜硅混合键合工艺将通孔间距缩小到35微米级别,...
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美光芯片HBM3E封装:1.2tbs带宽与铜硅混合键合工艺,封装技术方面也取得了重大突破,台湾工厂量产的HBM3E高带宽内存采用12层硅通...这一高性能源于两项核心技术:铜硅混合键合工艺将通孔间距缩小到35微米级别,...