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英特尔高管未来芯片制造将减少对ASML高NAEUV光刻机的依赖转而提升刻蚀技术的核心地位

时间:2025-06-26 21:21:38  编辑:翡翠原石网  访问:982

英特尔高管未来芯片制造将减少对ASML高NAEUV光刻机的依赖转而提升刻蚀技术的核心地位

光刻技术,走下“神坛”,未来晶体管设计将降低对先进光刻设备的依赖,转而提升刻蚀技术的核心地位。他...制造商将更专注于通过刻蚀工艺去除材料,而非延长晶圆在光刻机中的处理时间来...

光刻技术,走下“神坛”,未来晶体管设计将降低对先进光刻设备的依赖,转而提升刻蚀技术的核心地位。他...未来芯片制造将减少对ASMLHigh-NAEUV光刻机的依赖,但业界对该设备的需求...