科大在无掩膜深紫外光刻技术研究中取得新进展

时间：2025-06-09 07:14:10  编辑：翡翠原石网  访问：340

利亚德、视源股份、鸿利智汇、英唐智控等27家LED、大屏、车载等显示相关企业2024年财报出炉，无掩膜光刻等领域持续研发，进行技术与专利布局，不断开发新产品，拓展新领域。...积极研发高制程掩膜的相关光刻技术；③继续推动基于偏光片的触控集成技术在头部...

决定未来的关键一战，现在打到哪儿了？，现在，我们将半导体工业中全新的电镜技术引入到科研应用中，为科技工作者量...光掩膜版、涂胶显影设备等光刻配套设施的持续创新，争取实现更多关键技术突破。...

干货！中科院原院长白春礼在全国人大的讲座全文：世界科技前沿发展态势，目前已经发现了超过240颗脉冲星，近期在快速射电暴的研究中取得了重要成果。...科学院已部署新技术路线光刻机的研制。总体来看，我国科技创新取得了历史性...

全国人大常委会专题讲座讲稿全文：世界科技前沿发展态势，目前已经发现了超过240颗脉冲星，近期在快速射电暴的研究中取得了重要成果。...科学院已部署新技术路线光刻机的研制。总体来看，我国科技创新取得了历史...

科大在无掩膜深紫外光刻技术研究中取得新进展，并将它们成功应用于新型无掩膜深紫外光刻技术中。该研究首次提出将深紫外微型...科大微纳研究与制造中心和安徽省格恩半导体公司的支持。我校孙海定教授为...

收藏！中央经济工作会议说的“独门绝技”，就在这里…，浸液系统等关键子系统和光刻胶、光掩膜版、涂胶显影设备等光刻配套设施的持续...济南量子技术研究院与科学技术大学研究人员合作，成功研制出了国际首个集成...